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　　拋光蠟的濃度值直接關(guān)系到拋光機(jī)上工件的加工功能，詳細(xì)影響工件的粗糙度。拋光蠟的濃度不宜過濃或過薄，兩者之間有相對濃度值，只需在這個(gè)相對范圍內(nèi)，就能保證工件外表粗糙度的良好性。

　　如果拋光蠟太厚，會導(dǎo)致磨削時(shí)工件外表的磨削力增大，導(dǎo)致外表劃痕，不光滑，一起粗糙度增大。當(dāng)拋光蠟太薄時(shí)，工件外表的磨削力太小，無法除去斑斕和劃痕，粗糙度變大。因而，只需拋光蠟濃度恰當(dāng)，這些問題就可以解決。
　　假定拋光輪轉(zhuǎn)速為6000r/min，拋光蠟流量為0.6l/min。隨著CeO2濃度的添加，氮化硅陶瓷加工外表的Ra值變小，當(dāng)拋光蠟濃度超過相對濃度值時(shí)，Ra值添加。原因是:當(dāng)拋光蠟濃度較低時(shí)，拋光蠟中CeO2顆粒缺乏，即沒有滿足的CeO2顆粒參加化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致氮化硅數(shù)據(jù)除去率低，外表粗糙度差；

　　當(dāng)拋光蠟濃度添加時(shí)，化學(xué)機(jī)械拋光過程中參加化學(xué)反應(yīng)的資料供應(yīng)添加，添加了有用的機(jī)械研磨效果，添加了部分溫度，加快了化學(xué)反應(yīng)，有用除去了發(fā)生的軟質(zhì)層，從而完成了較高的除去率和加工外表質(zhì)量；當(dāng)拋光蠟濃度進(jìn)一步添加時(shí)，化學(xué)作用進(jìn)一步增強(qiáng)，但機(jī)械作用相對缺乏，導(dǎo)致外表粗糙度值添加。